第310章 土法上马 (2/3)

“这就是？”陈启明凑过来看。

“嗯。”王技术员把胶涂在一片玻璃片上，用甩胶机甩匀，形成一层薄膜，“但还没完，得‘敏化’。重铬酸盐本身感光性不强，需要加入胺类物质增强。常用的有二乙醇胺......”

“我们有吗？”

“没有。”王技术员摇头，“而且敏化后，胶的寿命更短，最多两小时。”

赵四看着那层淡黄色的胶膜，脑子里飞快地转。重铬酸盐明胶......分辨率低、稳定性差、寿命短，问题一大堆。

但它是光刻胶。能在紫外线下硬化，能形成图案。

而且原料易得。重铬酸钾是常用化工原料，明胶更不用说。

“王工，”他忽然问，“如果不用胺类敏化，直接用重铬酸盐，感光性差多少？”

“差很多。”王技术员说，“可能需要曝光时间延长几倍，而且线条边缘不锐利。”

“但如果我们的光刻机曝光能量足够强呢？”

“那......也许可以试试。”王技术员不太确定，“但赵总工，这东西真不行。国际上的光刻胶都是专门的感光树脂，分辨率能达到微米级。咱们这个，可能连十微米都做不出来。”

“先别管国际上。”赵四说，“咱们的目标是做出能用的芯片，不追求性能多好。十微米的线条，对4位处理器来说，够不够？”

他看向陈启明。

陈启明皱眉想了想：“4004的最小线宽是8微米。如果咱们放宽到10微米……芯片面积会大一些，但功能应该能实现。”

“那就先解决有无问题。”赵四拍板，“王工，你带几个人，全力攻关重铬酸盐明胶。目标是：一、配方稳定，批批能用；二、分辨率尽量高；三、寿命尽量长。”

“好……我试试。”王技术员压力很大。

“不是你一个人。”赵四说，“林雪，你配合王工，负责测试。每配一批胶，马上上机试，记录效果。张卫东，你改造光刻机的曝光系统，提高紫外光强度，补偿感光度不足。”

“明白！”

“陈启明，你调整设计。”赵四继续说，“既然工艺能力有限，咱们就把设计放宽。线宽统一加到10微米，间距也放宽。先保证能做出来，再谈性能优化。”

“行。”

任务分下去，车间又动起来了。但气氛不一样了。之前是为提高良品率奋斗，现在是为生存奋斗。

王技术员的小组当天就配了五批胶，每批配方稍有不同。重铬酸盐浓度、明胶比例、水浴温度、搅拌时间……全都记录在案。

林雪带着人一批批试。效果确实不理想。有的胶涂不均匀，有的曝光后根本硬不起来，有的显影时整片脱落。

到了下午，终于有一批勉强能用。在硅片上曝光后，能形成模糊的图案，虽然线条边缘像狗啃的一样，但至少是个图案。

“赵总工，您看。”林雪把晶圆递过来。

赵四对着光看。线条很粗糙，有的地方宽，有的地方窄，但连续性是好的。

“能蚀刻吗？”

“试了，能。”林雪说，“但蚀刻后的线条更难看，而且有钻蚀现象。”

“先不管美观。”赵四放下晶圆，“用这个胶，做一片完整的芯片，从开始到结束，全过程走一遍。看最终能不能出管芯，能不能测试。”

“现在？”

“现在。”

整个车间都动员起来。这是第一次用自制光刻胶走完整流程，每个人都紧张。

涂胶、前烘、曝光、显影、后烘、蚀刻……一步接着一步。王技术员全程跟着，脸色煞白，手都在抖。

赵四没催她，只是站在旁边看。

蚀刻完成时，天已经黑了。硅片上传质层上，出现了歪歪扭扭但完整的电路图案。

“成了！”有人小声说。

“还没完。”陈启明很冷静，“还有扩散、离子注入、金属化、划片、封装、测试。差一步都不算成。”

但他眼里有光。

夜里十点，第一片用自制光刻胶制作的管芯终于出来了。丑得让人不忍直视，但毕竟是完整的。

测试台前围满了人。张卫东把管芯夹在探针台上，接通测试仪。

“上电。”

指示灯亮了。

“测电源电流。”

“正常。”